Die Firma EVOCHEM Advanced Materials GmbH ist bereits seit mehr als einem Jahrzehnt ein zuverlässiger Lieferant für die Dünnschichtindustrie. Unser Produktportfolio umfasst hoch effektive Aufdampfmaterialien, Sputter-Targets sowie PVD-Verbrauchsmaterialien. Daher freuen wir uns sehr, die erfolgreiche Erweiterung unseres Produktportfolios vorzustellen:
Die neue superhydrophobe Produktlinie von EVOCHEM umfasst: EVOCHEM ETC-ULTRA & EVOCHEM ETC-PRO und ETC-TOP (für PVD-Verfahren) sowie EVOCHEM ETC-LIQUID & EVOCHEM ETC-METAL-LIQUID (für nasschemische Verfahren).
Alle Produkte bieten hervorragende Prozess- und Filmeigenschaften: Hydrophobie, Anti-Soiling, Easy-to-clean sowie die damit einghergehende haptische Optimierung genügen auch höchsten Ansprüchen.
Wir bieten eine der größten und umfangreichsten Produktlinien an Sputter Targets. Alle gängigen Geometrien (und Größen) sind erhältlich. Das jeweilige Fertigungsverfahren der Sputtertargets wird bestimmt durch die Eigenschaften des Ausgangsmaterials sowie von der gewünschten Endanwendung des Sputtertargets. Dabei finden klassiches Pressverfahren, Vakuumschmelzen und Sintern ihre Anwendung. EVOCHEM liefert hochwertige Sputter Targets aus allen geeigneten Materialen und Materialkombinationen, wahlweise gebondet (Indium und Nano) auf speziell konstruierte Kühlkörper aus Kupfer, Edelstahl oder Molybdän - sowie auf kundeneigene Rückplatten. Alle Sputter Targets werden in allen Produktionsstadien auf deren Zusammensetzung, Reinheit, Dichte und abschließend auf Form und Abmessungen geprüft.
Beim Magnetron-Sputtern erzeugt man die notwendigen Ionen durch eine Gasentladung, die direkt vor dem Sputter Target brennt. Diese kann z.B. durch Anlegen einer elektrischen Gleichspannung bzw. durch eine Wechselspannung angeregt werden (DC-Sputtern bzw. RF-Sputtern). Im Fall der Gleichspannungsanregung besteht das Sputter Target z.b. aus einer Scheibe hochreinen Metalls, beispielsweise Titan. Beim RF-Sputtern können aber auch dielektrische Sputter Targets wie z.B. Titanoxid verwendet werden. Wird der Gasentladung ein reaktives Gas wie z.B. Sauerstoff hinzugefügt, führt dies zur Bildung von chemischen Reaktionsprodukten.
Die Firma EVOCHEM liefert ein umfassendes Produktportfolio an Aufdampfmaterialien, die speziell für die besonderen Anforderungen bei der Herstellung optischer Dünnschichten mittels Aufdampfverfahren im Vakuum (Physical Vapor Deposition – PVD) entwickelt wurden.
Unsere Aufdampfmaterialien stehen stellvertretend für die feinsten gegenwärtig erhältlichen Beschichtungsmaterialien, die so verarbeitet oder speziell entwickelt wurden, dass sie den anspruchsvollen Anforderungen bei wissenschaftlichen Versuchen, bei der Produkt- und Prozessentwicklung oder bei der Serienproduktion entsprechen. Unsere Produktlinie besteht aus über 60 Aufdampfmaterialien einschließlich Spezialmischungen und Spezialsubstanzen sowie Fluoriden, Oxiden, Sulfiden und Metallen, die als Granulate, Tabletten oder Scheiben erhältlich sind.
EVOCHEM hat erfolgreich das Qualitätsmanangement Sytem ISO 9001:2015 eingeführt, um ein Höchstmaß an Transparenz und Verlässlichkeit für unsere Kunden sicherstellen zu können. Darüberhinaus schützen wir die Produktion und Vertrieb unserer Aufdampfmaterialien mit Hilfe des QMS-Systems ISO 9001:2008. Dabei wird jede Charge einer Endprüfung unterzogen. Dazu gehören chemische Analysen sowie Anwendungstests. Chemische Analysen kritischer Ver-
unreinigungen gewährleisten, dass für den Verkauf freigegebene Produkte höchsten Qualitätsanforderungen entsprechen. Diese Tests werden von unabhängigen Laboren wie SGS oder CTI bestätigt.
Besuchen Sie uns auf der LASER World of PHOTONICS in München – vom 24. bis 27. Juni 2025.
